20世紀40~50年代,發(fā)明了半導體器件、晶體二極管和三極管,這些固體電子器件
小而耐用,在小功率低頻電子設備中開始替代電子管,繼而引發(fā)了微電子技術革命,使固體
電子器件在絕大多數(shù)應用領域逐漸取代了電真空器件,但這一結(jié)果并不是真空技術學科的
終結(jié),相反的是開創(chuàng)了真空技術學科發(fā)展的新天地?，F(xiàn)代半導體器件、集成電路、電子薄膜
器件、新型平板顯示器件等的研制和生產(chǎn)不僅離不開真空鍍膜、真空外延等各種真空儀器設
備,還對真空的質(zhì)量提出了更高的要求,如真空度須達到超高真空并要求無油污染等;另外,
現(xiàn)代尖端科學,如表面科學、粒子加速器、等離子體物理和熱核聚變、超純度材料冶煉、宇宙
空間模擬研究等都需要超高真空和極高真空技術,這大大促進了真空技術的發(fā)展,真空技術
在獲得發(fā)展的同時,它本身也成為了現(xiàn)代科學技術和產(chǎn)業(yè)不可或缺的基礎之一。

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